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碳化铬
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碳化铬用于制造耐磨薄膜和半导体薄膜

2021-12-31 11:55:42

碳化铬是一种非常重要的耐磨相,硬度是耐磨材料设计中重要的力学参数,但没有得到较为准确的结果。

用途:用于制造耐磨薄膜和半导体薄膜。

实验室制法

金属铬粉末碳化法是将炭黑以比理论结合碳量11.33%i柱高13.5%~64%质量%的比例,与用电解铬粉碎的325目的金属铬粉末用球磨机进行干式混合后,作为原料。 添加1%~3%硬脂酸作为成形润滑剂. 在1 T/era2以上的压力下加压成形。 将该加压成型粉末放入石墨皿或坩埚中,用涡轮机炉或感应加热炉在氢气流中(氢露点(一) 35左右)加热到1500~1700,保持l h使铬发生碳化反应,生成碳化铬,冷却后得到碳化铬。 

碳化铬

包装和保管

用玻璃瓶包装,每瓶净重0.5公斤或1公斤,集中在木箱内的缓冲材料上。 存放在暗处、通风、干燥的仓库,密闭保存。 不得与无机酸、碱、可燃物一起储存和运输。 搬运时请轻装轻卸,防止容器损伤。

制造方法通常工业制造CrzC2粉末是通过将氧化铬粉末和碳粉混合后进行高温碳化来制造的。 目前,在碳化铬的制备中,人们已经研究了许多方法:

美国企业通过高能球磨铬粉和石墨粉,在氩气保护气氛中、温度800C、碳化2h的条件下得到Cr3C2粉末;1996年在专利CN1176224A中,汪兆全等人以Cr2O3为铬源,以c为还原剂按一定配比混合,按照-一定的技术路线的方法,成功生产出碳含量超过12%、炭化率超过99%的Cr3C2粉末。 该方法工艺简单,但原粉末粒度粗,不利于炭化反应的进行。 另外,碳化温度也很高,能量消耗也很大。 另外,产物粒度也不满足要求,得不到良好的克制效果,不能满足在工业中的应用。


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